光掩模及空白掩模行业研究

--集成电路制造的光刻蓝本

主要内容

1.光掩模：集成电路制造的光刻蓝本

2.空白掩模：光掩模之核

3.产业主要公司

4.风险提示

光掩模是连接IC设计与制造的关键图形蓝本

n掩膜版（Photomask）又称光罩、掩模版、光刻掩膜版等，是液晶显示器、半导体等制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具。光掩模用于

下游电子元器件制造业批量生产，是下游电子元器件制造业流程衔接的关键部分，是下