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近年来，随着大规模集成电路、光刻工艺、微机械系统（MEMS）、光子芯

片等微纳制造技术迅猛发展，高精度的微纳测量方法对于产品质量保障、生产效

率提升起到至关重要的作用。在现有的微纳测量方法中，白光干涉等光学干涉测

量技术具有非接触、精度高、不易受到电磁干扰等优势，从而被广泛应用。相较

于光学干涉技术，超短激光脉冲飞行时间法具有更高的更新速率、更大的测量景

深、更简便的解算方式，而且工作距离不受限。以双光梳异步光学采样、电光采

样时间探针等为代表的直接飞行时间技术已经在复杂微纳器件的面型测量、台阶