基本信息

---

下载

文档摘要

---

摘要

近年来，高端光刻机向更高的生产效率和更高的套刻精度方向快速发展，

对其核心测量单元——激光干涉位移测量系统提出更高测量精度和更高测轴数

的要求。其测量精度从纳米提升至亚纳米，测量轴数从多轴提升至甚多轴。而

测量轴数的提升会导致干涉信号光功率降低，并且不同轴之间光强分配不均导

致各轴之间光功率差异巨大；且测量目标在多自由度运动时，其运动状态变化

会导致测量信号光功率发生显著变化。因此，针对上述问题，激光干涉信号探

测与处理系统应满足更高灵敏度和更大探测范围的需求。

针对低光功率下信号信