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半导体制造2025年刻蚀工艺高性能材料创新报告模板范文

一、半导体制造2025年刻蚀工艺高性能材料创新报告

1.1刻蚀工艺的演进与发展

1.1.1等离子体刻蚀技术

1.1.2深紫外（DUV）刻蚀技术

1.1.3极紫外（EUV）刻蚀技术

1.2高性能材料在刻蚀工艺中的应用

1.2.1硅烷类气体

1.2.2卤化物气体

1.2.3氮化物气体

1.3刻蚀工艺技术创新与未来趋势

1.3.1多源刻蚀技术

1.3.2离子束刻蚀技术

1.3.3纳米级刻蚀技术

1.3.4更高分辨率

1.3.5更低损伤

1.3.6绿色环保

二、刻蚀工艺在半导体制造中的应用现状与挑战

2.1刻蚀工艺