3nmGAAFET工艺研发进展与新一代移动处理器性能提升分析参考模板

一、3nmGAAFET工艺研发进展概述

1.3nmGAAFET工艺的背景及意义

2.3nmGAAFET工艺的技术特点

3.3nmGAAFET工艺的研发进展

4.3nmGAAFET工艺的应用前景

5.3nmGAAFET工艺面临的挑战

二、3nmGAAFET工艺关键技术解析

2.1晶体管结构优化

2.2极紫外光（EUV）光刻技术

2.3高密度互连技术

2.4新型材料应用

2.5制造工艺挑战

2.6研发进展与市场应用

2.7未来发展趋势

三、3nmGAAFET工艺对新一代移动处理器性能的提升