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文件名称:反应磁控溅射制备掺杂ZnO透明导电氧化物薄膜的多维度研究.docx
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总页数:33 页
更新时间:2025-09-16
总字数:约4.48万字
文档摘要
反应磁控溅射制备掺杂ZnO透明导电氧化物薄膜的多维度研究
一、引言
1.1研究背景与意义
在现代光电子学领域,透明导电氧化物(TCO)薄膜因其独特的高光学透明性和良好的导电性,成为了众多光电器件不可或缺的关键材料,广泛应用于平板液晶显示器、发光器件、薄膜太阳能电池、表面声波器件和红外探测器等诸多领域。在众多TCO薄膜材料中,铟锡氧化物(ITO)曾凭借其优异的综合性能,在很长一段时间内占据着主导地位。然而,随着对TCO薄膜需求的不断增长以及铟资源的日益稀缺,寻找一种性能优异且资源丰富的替代材料迫在眉睫。
氧化锌(ZnO)作为一种具有纤锌矿晶体结构的直接宽带隙半导体材料,近年来备受关注,