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文件名称：雕拓科技BP商业计划书.pptx
文件大小：7.12 MB
总页数：22 页
更新时间：2025-09-17
总字数：约小于1千字
文档摘要
;;;根据2021年国际半导体行业指南，纳米压印光刻技术(NIL)是5nm及更先进制程结点的潜在光刻路径；国际上，日本佳能基于纳米压印推出了5nm制程节点技术;纳米压印技术具有广阔的应用前景;;;;产学研团队近些年，完成国家级，省部级，市级各类基金项目十余项，及多项横向课题，总金