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文件名称:本征及掺杂氧化锌的制备工艺与光电性能的深度剖析.docx
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更新时间:2025-09-17
总字数:约3.05万字
文档摘要

本征及掺杂氧化锌的制备工艺与光电性能的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

在半导体材料的广袤领域中,氧化锌(ZnO)凭借其独特而卓越的性能,占据着举足轻重的地位,宛如一颗璀璨的明星,吸引着全球科研工作者的目光,成为材料科学领域的研究焦点之一。

氧化锌是一种多功能的宽带隙氧化物半导体材料,其室温下的禁带宽度高达3.37eV,激子结合能更是达到了60meV。这一特殊的能带结构,赋予了氧化锌许多优异的物理性质。例如,由于其较宽的直接带隙,使得氧化锌在紫外光区域展现出良好的光学响应,能够敏锐地捕捉紫外光信号,这一特性使其成为制造紫外光探测器的理想材料。与传统的探测器相比,基于氧化锌的紫