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文件名称:半导体芯片镀镍技术及peeling处理.docx
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总页数:20 页
更新时间:2025-09-18
总字数:约7.46千字
文档摘要
镀镍制程技术
一.无电镀镍的作用:
便于焊接
二.化学镀镍的优点:
1.不需外加直流电源设备
2.可在非金属,半导体等各种不同基材上镀覆
3.镀层厚度分布均匀
三.无电镀镍的原理:
1.活化中心的氧化还原反应
通过对不具有催化表面的工件(芯片)的特殊预处理—清洗,活化,使其
表面具有催化作用后,在工件(芯片)表面发生氧化还原反应【Ni被次亚磷酸钠还原成金属Ni-P合金而沉积在工件(芯片)表面】活用的活化剂
(钯、镍、金盐)。
2.烧渗(烧结)
金属离子在高温下有向硅晶体内部渗透扩散的特性
3.二次镍与一次镍的结合,提高抗拉力
用硝酸洗去氧化镍后,芯