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文档摘要

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半导体清洗工艺纳米级颗粒去除技术创新研究

一、半导体清洗工艺纳米级颗粒去除技术创新研究

1.1研究背景

1.2研究意义

1.3研究内容

二、纳米级颗粒的特性与危害

2.1纳米级颗粒的物理特性

2.2纳米级颗粒的化学特性

2.3纳米级颗粒的生物特性

2.4纳米级颗粒的危害

三、纳米级颗粒去除工艺研究现状

3.1物理去除工艺

3.2化学去除工艺

3.3生物去除工艺

3.4纳米级颗粒去除工艺的优化

3.5纳米级颗粒去除工艺的应用前景

四、纳米级颗粒去除效果的评估体系

4.1评估指标的选择

4.2评估方法

4.3评估体系的建立

4.4评估体系的应用

五、纳米级颗粒去除技