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文件名称:3nm以下GAAFET工艺研发进展:2025年技术突破与产业链升级.docx
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总页数:22 页
更新时间:2025-09-21
总字数:约1.46万字
文档摘要
3nm以下GAAFET工艺研发进展:2025年技术突破与产业链升级模板范文
一、3nm以下GAAFET工艺研发进展概述
1.13nm以下GAAFET工艺的技术挑战
1.22025年3nm以下GAAFET工艺的技术突破
1.3产业链升级与协同创新
1.4国内外企业竞争与合作
1.53nm以下GAAFET工艺的未来展望
二、3nm以下GAAFET工艺的制造技术进展
2.1极紫外光(EUV)光刻技术的突破与挑战
2.2新型晶体管结构的研发与应用
2.3材料创新与性能提升
2.4制造工艺的优化与挑战
2.5制造过程中的质量控制与良率提升
2.6产业链协同与技术创新
2.7国内外