基本信息
文件名称:3nm以下GAAFET工艺研发进展:2025年技术突破与产业链升级.docx
文件大小:47.96 KB
总页数:22 页
更新时间:2025-09-21
总字数:约1.46万字
文档摘要

3nm以下GAAFET工艺研发进展:2025年技术突破与产业链升级模板范文

一、3nm以下GAAFET工艺研发进展概述

1.13nm以下GAAFET工艺的技术挑战

1.22025年3nm以下GAAFET工艺的技术突破

1.3产业链升级与协同创新

1.4国内外企业竞争与合作

1.53nm以下GAAFET工艺的未来展望

二、3nm以下GAAFET工艺的制造技术进展

2.1极紫外光(EUV)光刻技术的突破与挑战

2.2新型晶体管结构的研发与应用

2.3材料创新与性能提升

2.4制造工艺的优化与挑战

2.5制造过程中的质量控制与良率提升

2.6产业链协同与技术创新

2.7国内外