基本信息
文件名称:未来半导体制造中的新型光刻光源技术创新路径.docx
文件大小:35.83 KB
总页数:24 页
更新时间:2025-09-21
总字数:约1.48万字
文档摘要

未来半导体制造中的新型光刻光源技术创新路径模板

一、未来半导体制造中的新型光刻光源技术创新路径

1.1光刻光源技术的重要性

1.2新型光刻光源技术的研究方向

1.2.1高效光源技术

1.2.2短波长光源技术

1.2.3可扩展光源技术

1.3新型光刻光源技术的创新路径

1.3.1加强基础研究

1.3.2产学研合作

1.3.3政策支持

二、新型光刻光源技术的关键材料与技术挑战

2.1关键材料的发展

2.1.1新型光源材料

2.1.2光刻掩模材料

2.1.3反射镜与透镜材料

2.2技术挑战

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