基本信息

---

下载

文档摘要

---

创新驱动2025年半导体刻蚀工艺技术革新报告参考模板

一、创新驱动2025年半导体刻蚀工艺技术革新报告

1.1刻蚀工艺概述

1.2技术创新方向

1.2.1深紫外（DUV）刻蚀技术

1.2.2极紫外（EUV）刻蚀技术

1.2.3化学气相沉积（CVD）刻蚀技术

1.2.4离子束刻蚀技术

1.3技术创新挑战

二、技术创新背景与动力

2.1全球半导体产业发展趋势

2.2技术创新驱动因素

2.2.1市场驱动

2.2.2技术驱动

2.2.3政策驱动

2.3技术创新的关键领域

2.3.1新型刻蚀工艺

2.3.2刻蚀设备研发