基本信息
文件名称:壳聚糖栅介质赋能低压氧化物薄膜晶体管的性能优化与应用探索.docx
文件大小:44.76 KB
总页数:29 页
更新时间:2025-09-23
总字数:约3.63万字
文档摘要
壳聚糖栅介质赋能低压氧化物薄膜晶体管的性能优化与应用探索
一、引言
1.1研究背景与意义
在现代电子技术的持续发展进程中,薄膜晶体管(Thin-FilmTransistor,TFT)作为关键的电子器件,在显示、传感及集成电路等诸多领域都有着极为广泛的应用。其中,氧化物薄膜晶体管(OxideThin-FilmTransistor,OTFT)凭借高电子迁移率、优异的环境稳定性、出色的光学透明度以及大面积均匀性等一系列独特优势,已然成为当下研究的热点领域。
自20世纪60年代金属氧化物薄膜晶体管的概念被提出以来,该领域历经了漫长的发展过程。早期,由于金属氧化物材料存在不稳定、低导电性