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文件名称：2025《光敏剂的发展概述》2300字.docx
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更新时间：2025-09-23
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光敏剂的发展概述
目录
TOC\o1-3\h\u6136光敏剂的发展概述 1
77091.1光敏剂作用机理 1
81141.2硬脂酸铁性能及制备 4
制备光降解薄膜的方法主要有两种:添加光降解剂与共聚合成。第一种是将光降解剂添加到塑料基料中，光降解剂吸收紫外光光能后裂变为活性自由基，进而引发聚合物.大分子发生连锁断链反应，达到光降解的目的,这种地膜就是添加光降解剂型降解地膜。另一种是将光敏基团以共聚的方式引入到高分子结构中，称为共聚合成型光降解地膜。本论文考虑到实际情况，采用加入光敏剂的方法制造光降解薄膜。
1.1光敏剂作用