半导体制造2025年技术创新：刻蚀工艺优化技术引领变革

一、半导体制造2025年技术创新：刻蚀工艺优化技术引领变革

1.1刻蚀工艺优化技术背景

1.2刻蚀工艺优化技术发展现状

1.2.1气相刻蚀技术

1.2.2液相刻蚀技术

1.2.3离子束刻蚀技术

1.3刻蚀工艺优化技术发展趋势

1.3.1高精度、高均匀性刻蚀技术

1.3.2环境友好型刻蚀技术

1.3.3刻蚀工艺自动化、智能化

1.3.4多维度刻蚀技术

二、刻蚀工艺优化技术在先进制程中的应用与挑战

2.1刻蚀工艺优化在先进制程中的应用

2.1.1极紫外（EUV）光刻技术

2.1.2三维集成技术

2.1.3转变栅极技