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文档摘要

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熔融法制备纳米及微米级二氧化硅颗粒的工艺与性能研究

一、引言

1.1研究背景与意义

二氧化硅（SiO_2）作为一种极其重要的无机化合物，在自然界广泛存在，是许多岩石和矿石的关键组成部分。因其具备众多优异特性，二氧化硅在现代工业和科研领域占据着举足轻重的地位。从微观层面来看，纳米及微米级别的二氧化硅颗粒，凭借其小尺寸效应、表面效应和量子尺寸效应等，展现出与常规二氧化硅截然不同的物理和化学性质，在众多前沿领域拥有广阔的应用前景。

在半导体领域，纳米二氧化硅薄膜凭借其硬度大、防腐蚀性强、耐潮湿性佳以及介电性能突出等优势，被广泛用作器件的保护层、钝化层和隔离层，对保障半导体器件的性能和稳定性起着关