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半导体刻蚀工艺2025年技术创新提升产业竞争力参考模板

一、半导体刻蚀工艺2025年技术创新提升产业竞争力

1.1刻蚀技术发展趋势

1.1.1极紫外光（EUV）刻蚀技术将成为主流

1.1.2多道光束刻蚀技术将得到广泛应用

1.1.3纳米刻蚀技术逐渐成熟

1.2刻蚀设备创新

1.2.1刻蚀设备小型化、精密化

1.2.2智能化刻蚀设备

1.2.3国产刻蚀设备崛起

1.3刻蚀材料创新

1.3.1新型刻蚀材料研发

1.3.2环保型刻蚀材料

1.3.3低成本刻蚀材料

1.4刻蚀工艺优化

1.4.1刻蚀工艺参数优化

1.4.2刻蚀工艺集成化

1.4.3刻蚀工艺自动化

二、刻