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文件名称:探究EEPROM氧化层特性与电荷保持特性:机制、影响及优化策略.docx
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更新时间:2025-09-26
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文档摘要

探究EEPROM氧化层特性与电荷保持特性:机制、影响及优化策略

一、引言

1.1EEPROM的发展与应用现状

自电子革命以来,半导体存储器在信息技术领域中扮演着不可或缺的角色,依据断电后数据保存特性,其可分为非易失性存储器和易失性存储器。EEPROM作为非易失性存储器的重要分支,自问世以来,便凭借独特的电擦写特性在半导体存储器领域占据重要地位。EEPROM的发展历程可追溯到20世纪70年代,1972年,SolidStateDevices首次制造出EEPROM,随后,HughesAircraft、Fairchild和Siemens等公司进一步开发,不断优化其性能