3nmGAAFET工艺在物联网设备中的应用及发展趋势报告模板

一、3nmGAAFET工艺概述

1.1GAAFET技术背景

1.23nmGAAFET工艺特点

1.33nmGAAFET工艺在物联网设备中的应用前景

二、3nmGAAFET工艺在物联网设备中的技术挑战与应对策略

2.1技术挑战一：制造工艺的复杂性

2.1.1设备精度提升

2.1.2材料创新

2.2技术挑战二：热管理问题

2.2.1散热材料研发

2.2.2热设计自动化（TDA）

2.3技术挑战三：电路设计优化

2.3.1电路仿真技术

2.3.2电路设计自动化（CDA）

2.4技术挑战四：兼容性问题

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