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文件名称:2025年高精度半导体CMP抛光液研发进展技术创新报告.docx
文件大小:30.65 KB
总页数:15 页
更新时间:2025-09-28
总字数:约8.78千字
文档摘要
2025年高精度半导体CMP抛光液研发进展技术创新报告
一、:2025年高精度半导体CMP抛光液研发进展技术创新报告
1.1抛光液概述
1.2抛光液研发背景
1.2.1背景一
1.2.2背景二
1.3抛光液研发方向
1.3.1方向一
1.3.2方向二
1.3.3方向三
1.3.4方向四
1.3.5方向五
二、高精度半导体CMP抛光液的关键技术
2.1抛光液配方优化
2.1.1配方选择
2.1.2添加剂添加
2.1.3配方优化
2.2抛光机理研究
2.2.1机理模型
2.2.2机理实验
2.2.3机理与配方关系
2.3抛光液稳定性控制
2.3.1储存稳定性