半导体光刻光源技术创新实践：2025年助力芯片制造工艺革新

一、半导体光刻光源技术创新实践：2025年助力芯片制造工艺革新

1.1背景分析

1.2技术创新方向

1.2.1极紫外（EUV）光刻技术

1.2.2深紫外（DUV）光刻技术

1.2.3光学成像技术

1.3技术创新实践

1.3.1研发新型光源

1.3.2提升光刻机性能

1.3.3优化光刻工艺

1.4技术创新应用

1.4.1推动先进制程工艺

1.4.2满足市场需求

1.4.3提升我国在全球半导体产业的竞争力

二、半导体光刻光源技术创新的关键因素

2.1技术研发