硅纳米线阵列磁控溅射镍膜上CVD石墨烯的制备与性能研究

一、引言

1.1研究背景与意义

随着科技的飞速发展，材料科学领域不断涌现出新型材料和制备技术，以满足日益增长的多领域应用需求。硅纳米线阵列、磁控溅射镍膜以及化学气相沉积（CVD）石墨烯作为材料科学的重要研究对象，各自展现出独特的性质和优势，将它们结合的研究具有重要的理论和实际意义。

硅纳米线阵列是一种具有独特结构和优异性能的纳米材料。其直径处于纳米量级，长度可达微米甚至毫米级别，具有极高的长径比。这种特殊的结构赋予了硅纳米线阵列一系列优异的电学、光学和力学性能。从电学性能来看，硅纳米线阵列的载流子迁移率高，能够实现快速的电子传输，在纳