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纳米材料制备技术学生期末题及答案

一、单项选择题（每题2分，共20分）

1.下列气相沉积技术中，属于物理气相沉积（PVD）的是：

A.化学气相沉积（CVD）

B.等离子体增强化学气相沉积（PECVD）

C.磁控溅射

D.金属有机化学气相沉积（MOCVD）

2.溶胶-凝胶法制备纳米材料时，前驱体通常选择：

A.金属单质

B.金属盐类（如硝酸盐）

C.金属醇盐（如正硅酸乙酯）

D.金属氧化物

3.水热法制备纳米材料时，反应体系的温度范围一般为：

A.25-100℃

B.100-300℃

C.300-500℃

D.