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文件名称:微纳集成电路制造工艺 课件 第8章外延工艺; 第9章 光刻工艺(1).pptx
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总页数:80 页
更新时间:2025-10-05
总字数:约1.42万字
文档摘要

微纳集成电路制造工艺Micro-nanoscaleIntegratedCircuitFabricationProcess“集”“微”成著·用“芯”圆梦

第八章外延Chapter8Photolithography

集成电路制造技术本章主要内容第八章Epitaxy-外延外延的基本概念与基本术语硅气相外延的基本原理与生长模型影响外延生长速率的因素外延层的掺杂分布低压外延与选择性外延外延生长技术外延层图形漂移

微纳集成电路制造工艺本章学习要求与重点难点第八章Epitaxy-外延学习要求:熟悉外延的基本概念与术语熟悉硅气相外延的基本原理与外延生长模型熟悉外延层中的杂质分布与外延