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文件名称:单晶氧化物势垒磁性隧道结:微制备工艺与磁电阻效应的深度剖析.docx
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更新时间:2025-10-05
总字数:约3.47万字
文档摘要

单晶氧化物势垒磁性隧道结:微制备工艺与磁电阻效应的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

随着信息技术的飞速发展,电子器件不断朝着小型化、高性能化的方向迈进,对存储和处理数据的速度、效率以及能耗等方面提出了更高的要求。磁性隧道结(MagneticTunnelJunction,MTJ)作为自旋电子学领域的核心器件之一,因其独特的磁电阻效应,在磁存储、传感器、自旋逻辑器件等众多领域展现出了巨大的应用潜力,成为了近年来凝聚态物理和材料科学领域的研究热点。

磁性隧道结通常由两个铁磁层和夹在中间的一层非磁性绝缘层组成,这种三明治结构利用了量子隧穿效应。当电子在两个磁性电极之间的绝缘层中隧穿时,隧