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半导体制造2025年创新刻蚀工艺推动产业进步报告

一、半导体制造2025年创新刻蚀工艺推动产业进步报告

1.刻蚀工艺在半导体制造中的重要性

1.22025年刻蚀工艺发展趋势

1.2.1高精度刻蚀技术

1.2.2高速刻蚀技术

1.2.3高选择性刻蚀技术

1.3刻蚀工艺创新对产业进步的推动作用

1.3.1提高芯片性能

1.3.2降低生产成本

1.3.3促进产业升级

1.4刻蚀工艺创新面临的挑战与机遇

1.4.1挑战

1.4.2机遇

二、刻蚀工艺的关键技术与发展现状

2.1刻蚀工艺的基本原理与分类

2.2刻蚀工艺的关键技术

2.2.1精度控制技术

2.2.2选择性控制