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文档摘要

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半导体光刻胶国产化进程中的技术创新策略探讨

一、半导体光刻胶国产化进程概述

1.1国产化进程的背景

1.1.1我国半导体产业的发展需求

1.1.2国际形势变化

1.1.3国家政策支持

1.2国产化进程的现状

1.2.1技术突破

1.2.2产业链逐步完善

1.2.3市场需求旺盛

1.3国产化进程面临的挑战

1.3.1技术瓶颈

1.3.2产业链协同不足

1.3.3市场竞争激烈

二、光刻胶技术创新的关键领域与路径

2.1关键技术创新领域

2.1.1基础材料研发

2.1.2合成工艺改进

2.1.3特殊应用领域开发

2.2技术创新路径

2.2.1产学研合作

2.2.2