;;集成电路制造技术;;;;;;;;;;;;;;集成电路制造技术;离子注入与CVD工艺案例-

高应力氮化硅致应变SOI技术;;;;;;;;;;;;第十章刻蚀工艺

Chapter10Etching;;;10.1基本概念-Concept;刻蚀工艺举例-Examples;刻蚀工艺举例-Examples;1、刻蚀速率-EtchingRate;2、刻蚀剖面-EtchingProfile;3、刻蚀选择性-SelectivityofEtching;4、刻蚀均匀性-UniformityofEtching;;1、对刻蚀工艺特性表述正确的是（）。;10.3湿法刻蚀-Wetetching;