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文档摘要

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光刻光源技术创新实践在半导体晶圆加工中的应用

一、光刻光源技术创新实践概述

1.光刻光源技术发展背景

1.1半导体产业对光刻技术的需求日益增长

1.2我国半导体产业对光刻技术的自主研发力度不断加大

1.3国家政策支持

2.光刻光源技术分类及特点

2.1紫外光（UV）光源

2.2极紫外光（EUV）光源

2.3深紫外光（DUV）光源

3.光刻光源技术创新实践

3.1光源稳定性

3.2光源功率

3.3光源波长

3.4光源控制技术

4.光刻光源技术创新实践在半导体晶圆加工中的应用

4.1提高光刻精度

4.2提高生产效率

4.3降低生产成本

二、光刻光源技术在半导体晶圆