基本信息

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文档摘要

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纳米氧化铈及其铈钛复合物的制备工艺与抛光性能优化研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代精密加工领域，随着科技的飞速发展，对材料表面质量和精度的要求日益严苛。无论是半导体芯片制造中追求的纳米级平整度，还是光学元件加工中对表面粗糙度近乎极致的控制，都推动着抛光材料和技术不断革新。纳米氧化铈凭借其独特的物理化学性质，在众多抛光材料中脱颖而出，成为研究和应用的热点。

纳米氧化铈（CeO_2），作为一种重要的稀土氧化物，其粒径处于纳米量级（通常为1-100nm），赋予了它与传统氧化铈截然不同的优异特性。从物理性质来看，纳米氧化铈具有高比表面积，这使得它在抛光过程中能够提供更多的活性位点，增