基本信息
文件名称:《集成电子技术基础教程 第4版 (上册)》 课件 第3章 半导体器件结构、特性和模型 .ppt
文件大小:5.76 MB
总页数:86 页
更新时间:2025-10-07
总字数:约5.83千字
文档摘要
(2)VGSVT,而VDS仍为较小的电压在栅极与衬底之间产生一个垂直电场(方向为由栅极指向衬底),它使漏-源之间的P型硅表面感应出电子层(即N型层,也称为反型层)。当大于开启电压该电子层使两个N+区连通,形成N型导电沟道,d-s间呈现低阻,所以在的作用下将可能产生漏极电流导电沟道越厚,d-s间等效电阻越小(3)VGSVT且足够大时,同时加上VDS电压该情况下,在一定的VDS范围,随着VGS电压的增加,ID电流也跟着增大。体现出线性的变化,如图所示。在VGSVT时,VDS对增强型N-MOSFET的影响0VDSVGS-VTVDS=VGS-VTVDS