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半导体行业2025年刻蚀工艺技术创新突破综述模板

一、半导体行业2025年刻蚀工艺技术创新突破综述

1.1刻蚀工艺概述

1.2刻蚀工艺技术创新突破

1.2.1物理刻蚀技术创新

1.2.1.1极紫外光（EUV）刻蚀技术

1.2.1.2离子束刻蚀技术

1.2.2化学刻蚀技术创新

1.2.2.1干法刻蚀技术

1.2.2.2湿法刻蚀技术

1.3刻蚀工艺技术创新突破的影响

二、刻蚀工艺技术创新在半导体制造中的应用与挑战

2.1刻蚀工艺在先进制程中的应用

2.1.1多晶硅刻蚀

2.1.2高介电常数（High-k）材料刻蚀

2.2刻蚀工艺在三维结构中的应用

2.2.1FinFET