电子束曝光技术在金属空气桥与硅纳米线器件制备中的应用与创新研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今科技飞速发展的时代，微纳加工技术作为推动众多领域进步的关键力量，正日益受到广泛关注。电子束曝光技术，作为微纳加工领域的核心技术之一，凭借其独特的优势，在过去几十年中取得了显著的发展，并在众多前沿领域展现出了巨大的应用潜力。

电子束曝光技术是一种利用聚焦的高能电子束在材料表面进行精确图案刻写的微纳加工技术。其基本原理基于电子与物质间的相互作用，当高能电子束作用于材料表面时，会引发一系列物理与化学变化，如电子的激发、电离以及材料的刻蚀等。通过精确控制电子束的能量、束斑大小、扫描速度和曝光时间等参