基本信息
文件名称:创新驱动半导体光刻:2025年光源技术深度报告.docx
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总页数:18 页
更新时间:2025-10-08
总字数:约1.04万字
文档摘要

创新驱动半导体光刻:2025年光源技术深度报告范文参考

一、创新驱动半导体光刻:2025年光源技术深度报告

1.1光刻技术概述

1.2光源技术发展背景

1.2.1光刻分辨率提升需求

1.2.2光源稳定性要求

1.2.3光源寿命要求

1.3光源技术发展趋势

1.3.1光源波长向短波方向拓展

1.3.2光源功率提高

1.3.3光源稳定性提升

1.3.4光源寿命延长

1.3.5光源集成化

二、EUV光刻光源技术原理与挑战

2.1EUV光源技术原理

2.1.1激光加热

2.1.2等离子体生成

2.1.3光束传输与聚焦

2.2EUV光源技术挑战

2.2.1光源功率限制