基本信息
文件名称:创新驱动半导体光刻:2025年光源技术深度报告.docx
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总页数:18 页
更新时间:2025-10-08
总字数:约1.04万字
文档摘要
创新驱动半导体光刻:2025年光源技术深度报告范文参考
一、创新驱动半导体光刻:2025年光源技术深度报告
1.1光刻技术概述
1.2光源技术发展背景
1.2.1光刻分辨率提升需求
1.2.2光源稳定性要求
1.2.3光源寿命要求
1.3光源技术发展趋势
1.3.1光源波长向短波方向拓展
1.3.2光源功率提高
1.3.3光源稳定性提升
1.3.4光源寿命延长
1.3.5光源集成化
二、EUV光刻光源技术原理与挑战
2.1EUV光源技术原理
2.1.1激光加热
2.1.2等离子体生成
2.1.3光束传输与聚焦
2.2EUV光源技术挑战
2.2.1光源功率限制