模拟退火单纯形联合算法：革新椭偏数据处理精度与效率的深度探索

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科学技术的发展进程中，对材料光学性质的深入研究愈发重要，其广泛应用于半导体、光学薄膜、生物医学等众多前沿领域。例如，在半导体制造中，精确了解材料的光学特性有助于优化芯片性能，提高电子设备的运行效率；在光学薄膜领域，准确把握材料的光学参数能更好地设计和制备高性能的光学元件，满足光通信、激光技术等领域的需求；在生物医学方面，材料光学性质的研究为生物成像、疾病诊断等提供了关键技术支持。而椭偏测量技术作为获取材料光学信息的重要手段，在其中发挥着不可或缺的作用。

椭偏测量通过分析偏振光与材料相互作用后偏