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文件名称:2025年前沿3nmGAAFET工艺技术路线图及研发策略分析.docx
文件大小:34.88 KB
总页数:25 页
更新时间:2025-10-09
总字数:约1.44万字
文档摘要
2025年前沿3nmGAAFET工艺技术路线图及研发策略分析
一、2025年前沿3nmGAAFET工艺技术路线图及研发策略分析
1.1技术背景
1.1.1技术背景
1.1.2发展现状
1.1.3未来趋势
1.2技术路线
1.2.1材料
1.2.2设备
1.2.3工艺
1.2.4封装
1.3研发策略
1.3.1产学研合作
1.3.2人才培养
1.3.3政策支持
二、材料创新与挑战
2.1材料创新
2.1.1高迁移率硅材料
2.1.2低介电常数材料
2.1.3高热导率材料
2.2材料挑战
2.2.1材料稳定性
2.2.2材料集成与加工
2.2.3环境与成