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文件名称:2025年前沿3nmGAAFET工艺技术路线图及研发策略分析.docx
文件大小:34.88 KB
总页数:25 页
更新时间:2025-10-09
总字数:约1.44万字
文档摘要

2025年前沿3nmGAAFET工艺技术路线图及研发策略分析

一、2025年前沿3nmGAAFET工艺技术路线图及研发策略分析

1.1技术背景

1.1.1技术背景

1.1.2发展现状

1.1.3未来趋势

1.2技术路线

1.2.1材料

1.2.2设备

1.2.3工艺

1.2.4封装

1.3研发策略

1.3.1产学研合作

1.3.2人才培养

1.3.3政策支持

二、材料创新与挑战

2.1材料创新

2.1.1高迁移率硅材料

2.1.2低介电常数材料

2.1.3高热导率材料

2.2材料挑战

2.2.1材料稳定性

2.2.2材料集成与加工

2.2.3环境与成