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文件名称:2025年GAAFET技术驱动下3nm以下工艺在VRAR芯片中的应用趋势.docx
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总页数:17 页
更新时间:2025-10-10
总字数:约1.36万字
文档摘要

2025年GAAFET技术驱动下3nm以下工艺在VRAR芯片中的应用趋势

一、2025年GAAFET技术驱动下3nm以下工艺在VRAR芯片中的应用趋势

1.1GAAFET技术的背景与优势

1.2GAAFET技术在3nm以下工艺中的应用

1.3VRAR芯片对3nm以下工艺的需求

1.4GAAFET技术对VRAR芯片的推动作用

二、GAAFET技术在VRAR芯片设计中的具体应用

2.1GAAFET晶体管在VRAR芯片中的基本应用

2.2GAAFET技术在VRAR芯片中的高性能集成

2.3GAAFET技术在VRAR芯片中的功耗优化

2.4GAAFET技术在VRAR芯片中的动态电压调整