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文件名称:2025年GAAFET技术驱动下3nm以下工艺在VRAR芯片中的应用趋势.docx
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总页数:17 页
更新时间:2025-10-10
总字数:约1.36万字
文档摘要
2025年GAAFET技术驱动下3nm以下工艺在VRAR芯片中的应用趋势
一、2025年GAAFET技术驱动下3nm以下工艺在VRAR芯片中的应用趋势
1.1GAAFET技术的背景与优势
1.2GAAFET技术在3nm以下工艺中的应用
1.3VRAR芯片对3nm以下工艺的需求
1.4GAAFET技术对VRAR芯片的推动作用
二、GAAFET技术在VRAR芯片设计中的具体应用
2.1GAAFET晶体管在VRAR芯片中的基本应用
2.2GAAFET技术在VRAR芯片中的高性能集成
2.3GAAFET技术在VRAR芯片中的功耗优化
2.4GAAFET技术在VRAR芯片中的动态电压调整