电沉积二氧化硅薄膜硅烷修饰及其在有机涂层体系应用的深度探究

一、引言

1.1研究背景与意义

二氧化硅（SiO?）薄膜作为一种重要的功能材料，凭借其独特的物理、化学和电学性质，在众多领域展现出了广泛的应用前景。在微电子学领域，随着芯片集成度的不断提高，对绝缘材料的性能要求也日益严苛。二氧化硅薄膜以其低介电常数、高绝缘强度以及良好的热稳定性，成为了集成电路中不可或缺的绝缘层材料，有效隔离电信号，防止电荷泄漏和短路，保障芯片的稳定运行。在光学领域，二氧化硅薄膜具有高透光性、低色散和良好的光学均匀性，被广泛应用于光学镜片、光导纤维、滤光片等光学元件的制备，极大地推动了光通信、激光技术、光学成像等领域