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文档摘要

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半导体材料表面改性技术及其性能优化研究

1.文档综述

随着科技的飞速发展，半导体材料在电子设备中的应用越来越广泛。然而由于其固有的物理性质，如高电子迁移率、低热导率等，使得其在实际应用中存在诸多限制。为了克服这些限制，表面改性技术成为了一种有效的方法。通过改变半导体材料的微观结构，可以显著提高其性能，从而满足更广泛的应用需求。因此本研究旨在探讨和优化半导体材料的表面改性技术及其性能。

首先我们将对现有的半导体材料表面改性技术进行概述，目前，常见的表面改性技术包括化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)以及离子注入等。这些技术各有优缺点，适用于不同的应用场景。例如，