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文件名称:蓝宝石衬底上氧化镓薄膜的生长调控与退火效应研究.docx
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总页数:26 页
更新时间:2025-10-11
总字数:约3.3万字
文档摘要
蓝宝石衬底上氧化镓薄膜的生长调控与退火效应研究
一、引言
1.1研究背景与意义
随着科技的飞速发展,半导体材料在现代电子领域中扮演着举足轻重的角色。从日常使用的电子设备到高端的航空航天技术,半导体器件无处不在,其性能的优劣直接影响着相关技术的发展和应用。氧化镓(Ga_2O_3)作为一种新兴的宽禁带半导体材料,近年来受到了广泛的关注和研究。其具有一系列优异的物理性质,使其在多个领域展现出巨大的应用潜力。
氧化镓的禁带宽度高达4.9eV,这一特性使其能够承受更高的电压,大大降低了器件的导通电阻,提高了能源利用效率。在电力电子领域,基于氧化镓的功率器件可以实现更高的功率密度和效率,有望推动新能