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文件名称:2025年GAAFET工艺3nm节点研发进展及产业链布局分析.docx
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总页数:18 页
更新时间:2025-10-12
总字数:约1.13万字
文档摘要
2025年GAAFET工艺3nm节点研发进展及产业链布局分析范文参考
一、2025年GAAFET工艺3nm节点研发进展及产业链布局分析
1.1GAAFET工艺概述
1.23nm节点研发进展
1.2.1晶体管结构创新
1.2.2材料创新
1.2.3工艺优化
1.3产业链布局分析
1.3.1设备供应商
1.3.2材料供应商
1.3.3代工厂商
1.3.4设计厂商
二、GAAFET工艺3nm节点技术挑战与解决方案
2.1技术挑战一:光刻技术难题
2.1.1研发新型光刻技术
2.1.2改进EUV光刻技术
2.1.3多层次光刻技术
2.2技术挑战二:蚀刻技术难题
2.2.1