基本信息
文件名称:2025年GAAFET工艺3nm节点研发进展及产业链布局分析.docx
文件大小:31.86 KB
总页数:18 页
更新时间:2025-10-12
总字数:约1.13万字
文档摘要

2025年GAAFET工艺3nm节点研发进展及产业链布局分析范文参考

一、2025年GAAFET工艺3nm节点研发进展及产业链布局分析

1.1GAAFET工艺概述

1.23nm节点研发进展

1.2.1晶体管结构创新

1.2.2材料创新

1.2.3工艺优化

1.3产业链布局分析

1.3.1设备供应商

1.3.2材料供应商

1.3.3代工厂商

1.3.4设计厂商

二、GAAFET工艺3nm节点技术挑战与解决方案

2.1技术挑战一:光刻技术难题

2.1.1研发新型光刻技术

2.1.2改进EUV光刻技术

2.1.3多层次光刻技术

2.2技术挑战二:蚀刻技术难题

2.2.1