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文件名称:2025年中微公司分析报告:刻蚀设备优势明显,产品进一步多元化.pdf
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总页数:36 页
更新时间:2025-10-12
总字数:约6.08万字
文档摘要

中微公司

刻蚀设备优势明显,产品进一步多元化

?存储器电路结构复杂拉动刻蚀/沉积需求:此前,我们曾在主题报告和北方华

创首次覆盖报告中阐述逻辑电路制程升级会增加刻蚀和沉积设备需求,本文

中,我们深度剖析3DNAND的制作过程,随着3DNAND的堆叠层数增加,沉积

和刻蚀步骤也将相应增加