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文件名称:过渡金属酞菁衍生物薄膜:制备工艺与气敏性能的深度剖析.docx
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总页数:26 页
更新时间:2025-10-13
总字数:约3.35万字
文档摘要

过渡金属酞菁衍生物薄膜:制备工艺与气敏性能的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今社会,随着工业化进程的加速和人们生活水平的提高,对环境质量和安全的关注度日益增加。气体检测作为环境监测、工业生产安全保障以及生物医学诊断等领域的关键技术,其重要性不言而喻。气敏材料作为气体传感器的核心组成部分,直接决定了传感器的性能优劣。传统的无机半导体气敏材料如氧化锡(SnO_2)、氧化锌(ZnO)等,虽然在气敏领域取得了一定的应用,但存在着制备工艺复杂、成本高、工作温度高以及选择性较差等问题。

有机半导体气敏材料因其具有材料来源广泛、成本低廉、制膜工艺简单、易于与其他技术集成以及可在常温下工作等显