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半导体制造2025年刻蚀工艺新型材料应用创新报告

一、半导体制造2025年刻蚀工艺新型材料应用创新报告

1.1刻蚀工艺在半导体制造中的重要性

1.2新型材料在刻蚀工艺中的应用

1.2.1高性能刻蚀气体

1.2.2刻蚀掩模材料

1.3刻蚀工艺创新

1.3.1离子束刻蚀技术

1.3.2气相刻蚀技术

1.4刻蚀工艺在半导体制造中的应用前景

1.4.1先进制程的突破

1.4.2新型器件的开发

1.4.3节能环保

二、新型刻蚀材料的研究与开发

2.1新型刻蚀材料的研究背景

2.2新型刻蚀材料的种类与特性

2.3新型刻蚀材料的研究进展

2.4新型刻蚀材料的未来展望

三、刻蚀工