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文件名称:808nm半导体功率放大激光器增透膜:材料、制备与性能优化.docx
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总页数:24 页
更新时间:2025-10-14
总字数:约3.14万字
文档摘要
808nm半导体功率放大激光器增透膜:材料、制备与性能优化
一、引言
1.1研究背景与意义
在光电子领域,半导体激光器凭借其体积小、重量轻、电光转换效率高、可靠性强、寿命长及成本低等显著优点,自诞生以来便在众多领域得到广泛应用。其中,808nm半导体功率放大激光器更是凭借独特优势占据着极为重要的地位。从发展历程来看,早在1963年就有人提出用波长在800-900nm之间的半导体激光发射器件作为固体激光器介质泵浦源的设想。到了八十年代,随着高功率激光二极管及其列阵的发展,特别是MBE(分子束外延)、MOCVD(金属有机化学气相沉积)生长技术和量子阱、应变量子阱机构的采用,单个激