集成电路制造中PVD镀膜与干法清洗工艺的深度解析与优化策略

一、引言

1.1研究背景

在现代科技飞速发展的时代，集成电路作为电子信息产业的核心基础，已广泛渗透到通信、计算机、消费电子、汽车、医疗等众多领域，成为推动各行业技术进步和创新发展的关键力量。近年来，随着人工智能、物联网、大数据、5G通信等新兴技术的蓬勃兴起，对集成电路的性能、尺寸、功耗等方面提出了更为严苛的要求，促使集成电路制造工艺不断向着高精度、高性能、低功耗的方向迈进。

在集成电路制造的复杂流程中，PVD镀膜和干法清洗工艺占据着举足轻重的地位，是实现芯片高性能、高可靠性的关键环节。PVD镀膜工艺凭借其高质量、高效率和强可控