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文件名称:微波辐照法:碳化硅纳米线合成与场发射性质的深度探究.docx
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总页数:24 页
更新时间:2025-10-16
总字数:约2.15万字
文档摘要
微波辐照法:碳化硅纳米线合成与场发射性质的深度探究
一、引言
1.1研究背景与意义
碳化硅纳米线(SiCNWs)作为一种极具潜力的一维纳米材料,自问世以来便在众多领域展现出独特的应用价值,吸引了科研工作者的广泛关注。它继承了碳化硅块体材料优异的力学性能,单根SiCNWs的杨氏模量可达610-660GPa,抗弯强度高达53.4GPa,约为碳化硅晶须的两倍,拉伸强度超过14GPa,同时在扫描电镜下还被发现具有超塑性现象。这些卓越的力学特性,使其在结构增强领域具有重要应用价值,可用于制造高性能复合材料,显著提升材料的强度和韧性,在航空航天、汽车制造等对材料性能要求极高的领域有着广