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文档摘要

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真空成分分析及设备工艺等知识单项选择题试卷

您的姓名：[填空题]*

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您的工号：[填空题]*

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1.TFECVD工艺中，薄膜的沉积是在（）环境下实现的[单选题]*

A.固体

B.液体

C.气体

D.等离子体(正确答案)

2.TFECVD工艺1/2形成的产物分别为（）[单选题]*

A.SiON/SiN(正确答案)

B.SiON/SiON

C.SiN/SiN

D.SiN/SiON

3.以下哪些是蒸镀机使用的泵（）[单选题]*

A.干泵