面向纳米定位的跨尺度二维工作台关键控制技术的深度剖析与创新应用

一、绪论

1.1研究背景与意义

在当今科技飞速发展的时代，纳米定位技术作为前沿科学和工程技术领域的关键支撑，正发挥着愈发重要的作用，已然成为推动众多高科技产业进步的核心力量。纳米定位技术，能够实现亚微米至纳米级别的超高精度定位，为诸多对精度有着严苛要求的领域开辟了新的发展路径。

在半导体制造领域，纳米定位技术堪称芯片制造过程中的关键环节。随着芯片集成度的不断攀升以及特征尺寸的持续缩小，对光刻机的对准精度提出了前所未有的高要求。光刻机需要将电路图案精确地转移到硅片上，任何微小的定位偏差都可能导致芯片性能的下降甚至报废。纳米定位技术